Comportamento diário ao longo do período de alimentação do primeiro estágio do sistema francês de wetland vertical, em termos de remoção de matéria orgânica e amônia

Camila Maria Trein, Jorge Alejandro García Zumalacarregui, Marcos von Sperling

Resumo


O objetivo desse trabalho foi avaliar o comportamento do potencial de nitrificação e remoção de matéria orgânica no primeiro estágio de um wetland construído vertical - sistema francês (WCV-SF), operando com dois leitos em paralelo, cada um com 7 dias de alimentação e 7 dias de repouso, sob condições climáticas brasileiras. A estação de tratamento avaliada está localizada no Centro de Pesquisa e Treinamento em Saneamento (CePTS) da Universidade Federal de Minas Gerais e Companhia de Saneamento de Minas Gerais, UFMG/COPASA, na cidade de Belo Horizonte, Brasil. Complementando o monitoramento rotineiro praticado há anos neste sistema, efetuou-se um monitoramento intensivo da qualidade do afluente e do efluente do WCV-SF durante uma semana, por meio de análises físico-químicas, através de coletas simples diárias nos tempos de 5, 10, 15, 20, 30, 40 e 50 minutos depois do início de uma batelada. Durante o período de monitoramento foi possível observar a eficiência dessa etapa associada à decomposição da matéria orgânica, permanecendo satisfatória mesmo em períodos de sobrecarga. Com concentrações positivas de oxigênio no efluente, o desempenho do sistema ao longo dos 7 dias de alimentação apresentou eficiência média de remoção e 69% para DQO. Em termos de nitrogênio, a eficiência de remoção de N-NH4+ foi de 58% e a produção de N-NO3- diminuiu com o avanço dos dias de alimentação, reportando 20 mg L-1 no 2º dia e 11 mg L-1 no último. De uma forma geral, apesar de ter apenas duas unidades em paralelo, o sistema mostrou boa capacidade de receber esgoto bruto por um período de tempo maior de alimentação, reforçando os resultados obtidos no monitoramento rotineiro.

Palavras-chave


Esgoto bruto; Esgoto sanitário; Estratégias operacionais; Tratamento de esgotos.

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DOI: http://dx.doi.org/10.17058/tecnolog.v22i1.10488

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